(1)刷涂法：使用毛刷将胶粘剂沿一个方向涂于粘接表面，其优点是使用方便，无需特殊设备，能适用于各种复杂零件的粘接，缺点是涂布厚薄不均匀，生产效率低。

(2)刀刮法，将胶液倒在粘接表面上，将板件从刀片下通过，刀片和刀杆是可以调节的，用来控制板件上的胶层厚度，刀刃与被粘接件表面之间的距离，即为胶层厚度，刀刃有时也可加工成锯齿形，方形等，其优点是方法简单，效果较好，缺点是涂敷厚度不均匀，质量不够稳定。

(3)辊涂法：使用胶辊将胶均匀地涂于粘接表面，其优点是工放高，胶层均匀，易于操作自动化。

(4)喷涂法：使用各种喷漆设备将胶喷于粘接表面，其优点是涂胶速度快，易于实现自动化，缺点是喷出的胶雾对操作人员身体有害。



























　　(5)焙融法：使用热熔十色将胶加入枪体加热熔融，然后从枪头挤出到被粘接表面上，再迅速搭接即可。

UV光刻胶加工工艺中为了图形转移，587胶水辐照必须作用在UV光刻胶上，通过改变UV光刻胶材料的性质，使得在完成UV光刻工艺后，UV光刻版图形被复制在圆片的表面，而加工前，如何选用UV光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。

尽管正性胶的分辨力是最好的，但实际应用中由于加工类型，加工要求，加工成本的考虑，需要对UV光刻胶进行合理的选择，本文通过对正性胶和负性胶的性能比较，为加工过程，实验操作中如何合理选用光刻胶提供了依据。

2UV光刻胶及其主要性能。

划分UV光刻胶的一个基本的类别是它的极性，光刻胶在曝光之后，被浸入显影溶液中，在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多，理想情况下，未曝光的区域保持不变，负性光刻胶正好相反，在显影剂中未曝光的区域将溶解，而曝光的区域被保留，正性胶的分辨力往往是最好的，因此在IC制造中的应用更为普及，但MEMS系统中，由于加工要求相对较低，U乐泰胶水V光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。

UV光刻胶必须满足几个硬性指标要求：高灵敏度，高对比度，好的蚀刻阻抗性，高分辨力，易于处理，高纯度，长寿命周期，低溶解度，低成本和比较高的玻璃化转换温度（Tg）。

主要的两个性能是灵敏度和分辨力，大多数光刻胶是无定向的聚合体，当温度高于玻璃化转换温度，聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现，因此呈粘性流动，当温度低于玻璃化转换温度，链条片段的分子运动停止，聚合体表现为玻璃而不是橡胶，当Tg低于室温，胶视为橡胶。

当Tg高于室温，胶被视为玻璃，由于温度高于Tg时，聚合体流动容易，于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理，可达到更稳定的能量状态，在橡胶状态，溶剂可以容易从聚合体中去除，如软烘培胶工艺，但此时胶的工作环境需要格外关注，当软化胶温度大于Tg时，它容易除去溶剂，但也容易混入各种杂质可赛新胶水，一般来说，结晶的聚合体不会用来作为胶，因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。

UV感光胶的主要成分是树脂或基体材料，感光化合物以及可控制光刻胶机械性能并使其保持液体状态的溶剂，树脂在曝光过程中改变分子结构，感光化合物控制树脂定相的化学反应速度，溶剂使得胶能在圆片上旋转擦敷并形成薄瞙，没有感光化合物的光刻胶称为单成分胶或单成分系统，有一种感光剂的情形下，称为二成分系统，因为溶剂和其他添加物不与胶的感光反应发生直接关系，它们不计入胶的成分。

在曝光过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，达到削弱聚合体的目的，所以曝光后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高，曝光后的光刻胶溶解速度几乎是未曝光的光刻胶溶解速度的10倍，而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。 文章名称：胶粘剂的涂布方法和优缺点及UV光刻胶知识 文章链接： 文章关键词：胶粘剂的涂布方法和优缺点及UV光刻胶知识 胶粘剂的涂布方法 UV光刻胶 中国胶水网 编辑整理